1、取3-5克微晶高分子纳米修复剂与微晶石表面上，注意用量不要太大，每平方米5克左右。

2、将纳米抛光垫压于抛光设备下，开动机器，20寸抛光机则用100转进行研磨，手持抛光机要开动2000转左右研磨2-3分钟，待有阻力感觉20寸机则调速到250转进行快速抛磨至干，手持抛光机则加速至5000转减轻压力进行抛磨，抛干抛亮，检查裂痕是否存在，如果还有就再重复几次直至划痕消除，最后收尽周围留下的眩光痕迹。

3、眩光痕迹的处理方法，每个研磨抛光过程后在周边都会留下一圈一圈的打磨痕迹，这种情况下用干净的垫子喷点清水抛一下就没了，但必须随磨随抛，不要等完全干透了就抛不下来了。