溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，的确有许多优点。不过，热蒸发镀膜成本比溅射低。可以用热蒸发的情况下，用热蒸发划算。
真空蒸发是在真空下进行的蒸发操作。在真空蒸发流程中，末效的二次蒸汽通常在混合式冷凝器中冷凝。
溅射镀用荷能粒子(通常为气体止离子)轰击靶材，使靶材表面部分原子逸出的现象。若把零件放在靶材附近酌适当位置上，则从靶材飞出的原子便会沉积到零件表面而形成镀层。它特另}l适用于高熔点金属、合金、半导体和各类化合物的镀覆二目前主要用于制备电子元件上所需的各种镀层。也可用来镀覆氮
溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，的确有许多优点。不过，热蒸发镀膜成本比溅射低。可以用热蒸发的情况下，用热蒸发划算。
真空蒸发是在真空下进行的蒸发操作。在真空蒸发流程中，末效的二次蒸汽通常在混合式冷凝器中冷凝。
溅射镀用荷能粒子(通常为气体止离子)轰击靶材，使靶材表面部分原子逸出的现象。若把零件放在靶材附近酌适当位置上，则从靶材飞出的原子便会沉积到零件表面而形成镀层。它特另}l适用于高熔点金属、合金、半导体和各类化合物的镀覆二目前主要用于制备电子元件上所需的各种镀层。也可用来镀覆氮
